Karbon Tetrafluorida (CF4)

Parameter Teknis

Karbon tetrafluorida adalah hidrokarbon terhalogenasi dengan rumus kimia CF4. Karbon tetrafluorida dapat berupa hidrokarbon terhalogenasi, metana terhalogenasi, perfluorokarbon, atau senyawa anorganik. Karbon tetrafluorida adalah gas tak berwarna dan tak berbau, tidak larut dalam air, serta larut dalam benzena dan kloroform. Stabil pada suhu dan tekanan normal, hindari oksidator kuat, bahan mudah terbakar, atau bahan yang mudah terbakar. Karbon tetrafluorida merupakan gas yang tidak mudah terbakar. Tekanan internal wadah akan meningkat jika terkena panas tinggi, sehingga berisiko retak dan meledak. Karbon tetrafluorida stabil secara kimia dan tidak mudah terbakar. Hanya reagen logam amonia-natrium cair yang dapat bekerja pada suhu ruangan. Karbon tetrafluorida adalah gas penyebab efek rumah kaca. Karbon tetrafluorida sangat stabil, dapat bertahan lama di atmosfer, dan merupakan gas rumah kaca yang sangat kuat. Karbon tetrafluorida digunakan dalam proses etsa plasma berbagai sirkuit terpadu. Gas ini juga digunakan sebagai gas laser, dan digunakan dalam refrigeran suhu rendah, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk detektor inframerah. Gas ini merupakan gas etsa plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronika. Gas ini merupakan campuran gas tetrafluorometana dengan kemurnian tinggi dan gas tetrafluorometana dengan kemurnian tinggi serta oksigen dengan kemurnian tinggi. Gas ini dapat digunakan secara luas dalam silikon, silikon dioksida, silikon nitrida, dan kaca fosfosilikat. Pengetsaan bahan film tipis seperti tungsten dan tungsten juga banyak digunakan dalam pembersihan permukaan perangkat elektronik, produksi sel surya, teknologi laser, refrigerasi suhu rendah, inspeksi kebocoran, dan deterjen dalam produksi sirkuit cetak. Gas ini juga digunakan sebagai refrigeran suhu rendah dan teknologi etsa kering plasma untuk sirkuit terpadu. Petunjuk penyimpanan: Simpan di gudang gas non-mudah terbakar yang sejuk dan berventilasi. Jauhkan dari api dan sumber panas. Suhu penyimpanan tidak boleh melebihi 30°C. Simpan bahan ini secara terpisah dari bahan yang mudah terbakar dan oksidator, serta hindari penyimpanan campuran. Area penyimpanan harus dilengkapi dengan peralatan penanganan darurat kebocoran.

Aplikasi:

① Refrigeran:

Tetrafluorometana terkadang digunakan sebagai zat pendingin suhu rendah.

2. Etsa:

Zat ini digunakan dalam pembuatan mikro elektronika saja atau dalam kombinasi dengan oksigen sebagai plasma etchant untuk silikon, silikon dioksida, dan silikon nitrida.

Paket normal:

Keuntungan:

①Kemurnian tinggi, fasilitas terbaru;

②Produsen sertifikat ISO;

③Pengiriman cepat;

④Sistem analisis daring untuk kontrol kualitas di setiap langkah;

⑤Persyaratan tinggi dan proses yang cermat untuk menangani silinder sebelum pengisian;