Karbon Tetrafluorida (CF4)

Deskripsi Singkat:

Karbon tetrafluorida, juga dikenal sebagai tetrafluorometana, adalah gas tidak berwarna pada suhu dan tekanan normal, tidak larut dalam air. Gas CF4 saat ini merupakan gas etsa plasma yang paling banyak digunakan di industri mikroelektronika. Ia juga digunakan sebagai gas laser, pendingin kriogenik, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk tabung detektor inframerah.


Detail Produk

Label Produk

Parameter Teknis

Spesifikasi 99,999%
Oksigen+Argon ≤1ppm
Nitrogen ≤4 ppm
Kelembaban (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halokarbin ≤1 ppm
Jumlah Kotoran ≤10 ppm

Karbon tetrafluorida adalah hidrokarbon terhalogenasi dengan rumus kimia CF4. Ini dapat dianggap sebagai hidrokarbon terhalogenasi, metana terhalogenasi, perfluorokarbon, atau sebagai senyawa anorganik. Karbon tetrafluorida adalah gas tidak berwarna dan tidak berbau, tidak larut dalam air, larut dalam benzena dan kloroform. Stabil di bawah suhu dan tekanan normal, hindari oksidan kuat, bahan mudah terbakar atau mudah terbakar. Gas yang tidak mudah terbakar, tekanan internal wadah akan meningkat bila terkena panas tinggi, dan terdapat bahaya retak dan ledakan. Ini stabil secara kimia dan tidak mudah terbakar. Hanya reagen logam amonia-natrium cair yang dapat bekerja pada suhu kamar. Karbon tetrafluorida merupakan gas yang menyebabkan efek rumah kaca. Ia sangat stabil, dapat bertahan di atmosfer untuk waktu yang lama, dan merupakan gas rumah kaca yang sangat kuat. Karbon tetrafluorida digunakan dalam proses etsa plasma di berbagai sirkuit terpadu. Ia juga digunakan sebagai gas laser, dan digunakan dalam pendingin suhu rendah, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk detektor inframerah. Ini adalah gas etsa plasma yang paling banyak digunakan di industri mikroelektronika. Ini adalah campuran gas dengan kemurnian tinggi tetrafluorometana dan gas dengan kemurnian tinggi tetrafluorometana dan oksigen dengan kemurnian tinggi. Ini dapat digunakan secara luas dalam silikon, silikon dioksida, silikon nitrida, dan kaca fosfosilikat. Pengetsaan bahan film tipis seperti tungsten dan tungsten juga banyak digunakan dalam pembersihan permukaan perangkat elektronik, produksi sel surya, teknologi laser, pendinginan suhu rendah, pemeriksaan kebocoran, dan deterjen dalam produksi sirkuit cetak. Digunakan sebagai pendingin suhu rendah dan teknologi etsa kering plasma untuk sirkuit terpadu. Tindakan pencegahan untuk penyimpanan: Simpan di gudang gas yang sejuk dan berventilasi, tidak mudah terbakar. Jauhkan dari api dan sumber panas. Suhu penyimpanan tidak boleh melebihi 30°C. Ini harus disimpan secara terpisah dari bahan yang mudah terbakar dan oksidan, dan hindari penyimpanan campuran. Tempat penyimpanan harus dilengkapi dengan peralatan perawatan darurat kebocoran.

Aplikasi:

① Pendingin:

Tetrafluorometana terkadang digunakan sebagai zat pendingin bersuhu rendah.

  fdrgr Greg

② Mengetsa:

Ini digunakan dalam fabrikasi mikro elektronik sendiri atau dalam kombinasi dengan oksigen sebagai etsa plasma untuk silikon, silikon dioksida, dan silikon nitrida.

dsgre rgg

Paket biasa:

Produk Karbon TetrafluoridaCF4
Ukuran Paket Silinder 40Ltr Silinder 50Ltr  
Mengisi Berat Bersih/Sil 30Kg 38Kg  
QTY Dimuat dalam 20'Container 250 Sil 250 Sil
Total Berat Bersih 7,5 Ton 9,5 Ton
Berat Tara Silinder 50Kg 55Kg
Katup CGA 580

Keuntungan:

①Kemurnian tinggi, fasilitas terbaru;

②Produsen sertifikat ISO;

③Pengiriman cepat;

④Sistem analisis online untuk pengendalian kualitas di setiap langkah;

⑤Persyaratan tinggi dan proses yang cermat untuk menangani silinder sebelum diisi;


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami