Karbon Tetrafluorida (CF4)

Deskripsi Singkat:

Karbon tetrafluorida, juga dikenal sebagai tetrafluorometana, adalah gas tidak berwarna pada suhu dan tekanan normal, tidak larut dalam air. Gas CF4 saat ini merupakan gas etsa plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronika. Gas ini juga digunakan sebagai gas laser, pendingin kriogenik, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk tabung detektor inframerah.


Detail Produk

Label Produk

Parameter Teknis

Spesifikasi 99,999%
Oksigen + Argon ≤1 ppm
Nitrogen ≤4 ppm
Kelembapan (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Total Impuritas ≤10 ppm

Karbon tetrafluorida adalah hidrokarbon terhalogenasi dengan rumus kimia CF4. Senyawa ini dapat dianggap sebagai hidrokarbon terhalogenasi, metana terhalogenasi, perfluorokarbon, atau sebagai senyawa anorganik. Karbon tetrafluorida adalah gas tidak berwarna dan tidak berbau, tidak larut dalam air, larut dalam benzena dan kloroform. Stabil pada suhu dan tekanan normal, hindari oksidator kuat, bahan yang mudah terbakar atau mudah meledak. Gas yang tidak mudah terbakar, tekanan internal wadah akan meningkat ketika terpapar panas tinggi, dan ada bahaya retak dan ledakan. Senyawa ini stabil secara kimia dan tidak mudah terbakar. Hanya reagen amonia cair-natrium logam yang dapat bekerja pada suhu kamar. Karbon tetrafluorida adalah gas yang menyebabkan efek rumah kaca. Senyawa ini sangat stabil, dapat bertahan di atmosfer dalam waktu lama, dan merupakan gas rumah kaca yang sangat kuat. Karbon tetrafluorida digunakan dalam proses etsa plasma berbagai sirkuit terpadu. Gas ini juga digunakan sebagai gas laser, dan digunakan dalam pendingin suhu rendah, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk detektor inframerah. Ini adalah gas etsa plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronika. Gas ini merupakan campuran gas tetrafluorometana murni dan oksigen murni. Gas ini dapat digunakan secara luas pada silikon, silikon dioksida, silikon nitrida, dan kaca fosfosilikat. Gas ini juga banyak digunakan untuk etsa material film tipis seperti tungsten dan tungsten oksida, serta dalam pembersihan permukaan perangkat elektronik, produksi sel surya, teknologi laser, pendinginan suhu rendah, inspeksi kebocoran, dan deterjen dalam produksi sirkuit tercetak. Digunakan sebagai pendingin suhu rendah dan teknologi etsa kering plasma untuk sirkuit terpadu. Tindakan pencegahan penyimpanan: Simpan di gudang gas yang sejuk, berventilasi, dan tidak mudah terbakar. Jauhkan dari api dan sumber panas. Suhu penyimpanan tidak boleh melebihi 30°C. Bahan ini harus disimpan terpisah dari bahan yang mudah terbakar dan oksidan, serta hindari penyimpanan campuran. Area penyimpanan harus dilengkapi dengan peralatan penanganan darurat kebocoran.

Aplikasi:

① Refrigeran:

Tetrafluorometana terkadang digunakan sebagai zat pendingin suhu rendah.

  fdrgr Greg

② Etsa:

Zat ini digunakan dalam fabrikasi mikro elektronik, baik sendiri maupun dikombinasikan dengan oksigen, sebagai bahan etsa plasma untuk silikon, silikon dioksida, dan silikon nitrida.

dsgre rgg

Paket standar:

Produk Karbon TetrafluoridaCF4
Ukuran Paket Tabung 40 Liter Tabung 50 Liter  
Berat Bersih Isi/Silinder 30 kg 38 kg  
JUMLAH yang Dimuat dalam Kontainer 20' 250 Silinder 250 Silinder
Berat Bersih Total 7,5 Ton 9,5 Ton
Berat Kosong Silinder 50 kg 55 kg
Katup CGA 580

Keuntungan:

①Kemurnian tinggi, fasilitas terkini;

②Produsen bersertifikat ISO;

③Pengiriman cepat;

④Sistem analisis online untuk kontrol kualitas di setiap langkah;

⑤Persyaratan tinggi dan proses yang teliti untuk penanganan silinder sebelum pengisian;


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami.