Produk
-
Oksigen (O2)
Oksigen adalah gas yang tidak berwarna dan tidak berbau.Ini adalah bentuk unsur oksigen yang paling umum.Sejauh menyangkut teknologi, oksigen diekstraksi dari proses pencairan udara, dan oksigen di udara menyumbang sekitar 21%.Oksigen adalah gas tidak berwarna dan tidak berbau dengan rumus kimia O2, yang merupakan bentuk unsur paling umum dari oksigen.Titik leburnya adalah -218,4°C, dan titik didihnya adalah -183°C.Tidak mudah larut dalam air.Sekitar 30mL oksigen dilarutkan dalam 1L air, dan oksigen cair berwarna biru langit. -
Belerang Dioksida (SO2)
Sulfur dioksida (sulfur dioksida) adalah sulfur oksida yang paling umum, paling sederhana, dan mengiritasi dengan rumus kimia SO2.Sulfur dioksida adalah gas yang tidak berwarna dan transparan dengan bau yang menyengat.Larut dalam air, etanol dan eter, sulfur dioksida cair relatif stabil, tidak aktif, tidak mudah terbakar, dan tidak membentuk campuran yang mudah meledak dengan udara.Sulfur dioksida memiliki sifat pemutihan.Sulfur dioksida umumnya digunakan dalam industri untuk memutihkan pulp, wol, sutra, topi jerami, dll. Sulfur dioksida juga dapat menghambat pertumbuhan jamur dan bakteri. -
Etilena Oksida (ETO)
Etilena oksida adalah salah satu eter siklik yang paling sederhana.Ini adalah senyawa heterosiklik.Rumus kimianya adalah C2H4O.Ini adalah karsinogen beracun dan produk petrokimia yang penting.Sifat kimia etilen oksida sangat aktif.Ia dapat mengalami reaksi adisi pembukaan cincin dengan banyak senyawa dan dapat mereduksi perak nitrat. -
1,3 Butadiena (C4H6)
1,3-Butadiene adalah senyawa organik dengan rumus kimia C4H6.Ini adalah gas tidak berwarna dengan sedikit bau aromatik dan mudah dicairkan.Ini kurang beracun dan toksisitasnya mirip dengan etilen, tetapi memiliki iritasi yang kuat pada kulit dan selaput lendir, dan memiliki efek anestesi pada konsentrasi tinggi. -
Hidrogen (H2)
Hidrogen memiliki rumus kimia H2 dan berat molekul 2,01588.Di bawah suhu dan tekanan normal, ini adalah gas yang sangat mudah terbakar, tidak berwarna, transparan, tidak berbau dan tidak berasa yang sulit larut dalam air, dan tidak bereaksi dengan sebagian besar zat. -
Neon (Tidak)
Neon adalah gas langka yang tidak berwarna, tidak berbau, tidak mudah terbakar dengan rumus kimia Ne.Biasanya neon dapat digunakan sebagai pengisi gas untuk lampu neon berwarna untuk tampilan iklan luar ruangan, dan juga dapat digunakan untuk indikator cahaya visual dan pengaturan voltase.Dan komponen campuran gas laser.Gas mulia seperti Neon, Krypton dan Xenon juga dapat digunakan untuk mengisi produk kaca guna meningkatkan kinerja atau fungsinya. -
Karbon Tetrafluorida (CF4)
Karbon tetrafluorida, juga dikenal sebagai tetrafluorometana, adalah gas tidak berwarna pada suhu dan tekanan normal, tidak larut dalam air.Gas CF4 saat ini merupakan gas etsa plasma yang paling banyak digunakan dalam industri mikroelektronika.Ini juga digunakan sebagai gas laser, pendingin kriogenik, pelarut, pelumas, bahan isolasi, dan pendingin untuk tabung detektor inframerah. -
Sulfuril Fluorida (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, gas beracun, terutama digunakan sebagai insektisida.Karena sulfuryl fluoride memiliki karakteristik difusi dan permeabilitas yang kuat, insektisida spektrum luas, dosis rendah, jumlah residu rendah, kecepatan insektisida cepat, waktu dispersi gas pendek, penggunaan mudah pada suhu rendah, tidak berpengaruh pada tingkat perkecambahan dan toksisitas rendah, semakin banyak Ini semakin banyak digunakan di gudang, kapal kargo, bangunan, bendungan reservoir, pencegahan rayap, dll. -
Silana (SiH4)
Silane SiH4 adalah gas terkompresi yang tidak berwarna, beracun, dan sangat aktif pada suhu dan tekanan normal.Silana banyak digunakan dalam pertumbuhan silikon epitaxial, bahan baku untuk polisilikon, silikon oksida, silikon nitrida, dll., Sel surya, serat optik, pembuatan kaca berwarna, dan pengendapan uap kimia. -
Oktafluorosiklobutana (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, kemurnian gas: 99,999%, sering digunakan sebagai propelan aerosol makanan dan gas sedang.Hal ini sering digunakan dalam proses PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition) semikonduktor, C4F8 digunakan sebagai pengganti CF4 atau C2F6, digunakan sebagai gas pembersih dan gas etsa proses semikonduktor. -
Nitrit Oksida (NO)
Gas oksida nitrat adalah senyawa nitrogen dengan rumus kimia NO.Ini adalah gas yang tidak berwarna, tidak berbau, beracun yang tidak larut dalam air.Nitrat oksida secara kimiawi sangat reaktif dan bereaksi dengan oksigen untuk membentuk gas korosif nitrogen dioksida (NO₂). -
Hidrogen Klorida (HCl)
Hidrogen klorida HCL Gas adalah gas tidak berwarna dengan bau menyengat.Larutan berairnya disebut asam klorida, juga dikenal sebagai asam klorida.Hidrogen klorida terutama digunakan untuk membuat pewarna, rempah-rempah, obat-obatan, berbagai klorida dan penghambat korosi.
